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ULVAC爱发科 沉积设备 PDC08
ULVAC爱发科 沉积设备 PDC08ULVAC爱发科 沉积设备 PDC08规格连接管道：2米（Φ6.35）低温端面朝下时无缓冲器冷头模型PDC08达到温度45/40K制冷输出（50/60Hz）5W/7.5W@77K尺寸Φ79298（H）压缩机单元SA112，SW112重量约1.5公斤压力开关电机模型M601尺寸Φ109139（H）…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C32211
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C32211ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C32211规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C22211
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C22211ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C22211规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C12211
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C12211ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C12211规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C31111
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C31111ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C31111规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C21111
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C21111ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C21111规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C11111
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C11111ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C11111规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 RFS-201
ULVAC爱发科 沉积设备 RFS-201ULVAC爱发科 沉积设备 RFS-201特色它是一种用于绝缘体、金属和半导体材料的溅射器件。我们主泵使用涡轮分子泵。三根阴极2英寸，可实现多层沉积，最多可达3层。磁控管溅射可提供30 nm/min（SiO2）的溅射速率。它配备了基底加热机制（35…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151SRF
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151SRFULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151SRF特色它是一种用于绝缘体、金属和半导体材料的溅射器件。我们主泵使用涡轮分子泵。三根阴极2英寸，可实现多层沉积，最多可达3层。磁控管溅射可提供30 nm/min（SiO2）的溅射速率。它配备了基底加热机…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151M
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151MULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151M特色它是一种用于绝缘体、金属和半导体材料的溅射器件。我们主泵使用涡轮分子泵。三根阴极2英寸，可实现多层沉积，最多可达3层。磁控管溅射可提供30 nm/min（SiO2）的溅射速率。它配备了基底加热机制（…
2026-04-21