ULVAC爱发科   沉积设备  VTR-151SRF

ULVAC爱发科   沉积设备  VTR-151SRF


特色

  • 它是一种用于绝缘体、金属和半导体材料的溅射器件。

  • 我们主泵使用涡轮分子泵。

  • 三根阴极×2英寸,可实现多层沉积,最多可达3层。

  • 磁控管溅射可提供30 nm/min(SiO2)的溅射速率。

  • 它配备了基底加热机制(350°C)。

规格

模型VTR-151M/SRF(SCOTT-C3)
真空性能达到压力6.6×10-4
排气时间6.6×10-3Pa/5分钟
真空罐真空罐金属腔体(内径Φ310.5毫米×高度160毫米)
阴极2英寸,3元
推荐板子尺寸Φ2“(Φ50.8mm)×t1毫米
有效沉积范围25毫米
胶片成形速度SiO2沉积>30 nm/min
胶片厚度分布25毫米面积10%内SiO2沉积±
基材加热温度最高350°C
基板/电极距离50毫米 ~ 90毫米(可变:半固定)
排气系统主泵涡轮分子泵 250L/sec
液氮陷阱
辅助泵油转真空泵 200升/分钟
油雾陷阱油雾拦截器 OMT-200A
运营部门主阀门蝶阀
辅助阀门三通阀
自动泄漏阀选项
运营手动
控制系统射频电源最大300瓦(0~300瓦可变)
皮拉尼真空计GP-1GRY
电离真空计ISG1/SH2-1
设置最大尺寸1081毫米(宽)×853毫米(深)×1104毫米(高)
质量400公斤

公用事业

模型VTR-151M/SRF(SCOTT-C3)
电力需求200伏单相 50/60Hz 3.5kVA
地面终端A型(接地电阻10Ω或以下)
用水需求2.0升/分钟(水温:25°C或以下,水压:200kPa(表压))
争议(电源)乙烯基盖轮胎线(端部松动)4m R3.5-5,带压接端子
战斗(地球)接地线(端部松动)4m R5.5-8,带压接端子
比赛(周三)Tetron刀片软管(内径9毫米×外径15毫米),4米(两件)