ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151M
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151M
特色
它是一种用于绝缘体、金属和半导体材料的溅射器件。
我们主泵使用涡轮分子泵。
三根阴极×2英寸，可实现多层沉积，最多可达3层。
磁控管溅射可提供30 nm/min（SiO2）的溅射速率。
它配备了基底加热机制（350°C）。
规格
| 模型 | VTR-151M/SRF（SCOTT-C3） | |
| 真空性能 | 达到压力 | 6.6×10-4爸 |
| 排气时间 | 6.6×10-3Pa/5分钟 | |
| 真空罐 | 真空罐 | 金属腔体（内径Φ310.5毫米×高度160毫米） |
| 阴极 | 2英寸，3元 | |
| 推荐板子尺寸 | Φ2“（Φ50.8mm）×t1毫米 | |
| 有效沉积范围 | 25毫米 | |
| 胶片成形速度 | SiO2沉积>30 nm/min | |
| 胶片厚度分布 | 25毫米面积10%内的SiO2沉积± | |
| 基材加热温度 | 最高350°C | |
| 基板/电极距离 | 50毫米 ~ 90毫米（可变：半固定） | |
| 排气系统 | 主泵 | 涡轮分子泵 250L/sec |
| 液氮陷阱 | ー | |
| 辅助泵 | 油转真空泵 200升/分钟 | |
| 油雾陷阱 | 油雾拦截器 OMT-200A | |
| 运营部门 | 主阀门 | 蝶阀 |
| 辅助阀门 | 三通阀 | |
| 自动泄漏阀 | 选项 | |
| 运营 | 手动 | |
| 控制系统 | 射频电源 | 最大300瓦（0~300瓦可变） |
| 皮拉尼真空计 | GP-1GRY | |
| 电离真空计 | ISG1/SH2-1 | |
| 设置 | 最大尺寸 | 1081毫米（宽）×853毫米（深）×1104毫米（高） |
| 质量 | 400公斤 | |
公用事业
| 模型 | VTR-151M/SRF（SCOTT-C3） |
| 电力需求 | 200伏单相 50/60Hz 3.5kVA |
| 地面终端 | A型（接地电阻10Ω或以下） |
| 用水需求 | 2.0升/分钟（水温：25°C或以下，水压：200kPa（表压）） |
| 争议（电源） | 乙烯基盖轮胎线（端部松动）4m R3.5-5，带压接端子 |
| 战斗（地球） | 接地线（端部松动）4m R5.5-8，带压接端子 |
| 比赛（周三） | Tetron刀片软管（内径9毫米×外径15毫米），4米（两件） |