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ULVAC爱发科 沉积控制器 UCR-5MAG-12
ULVAC爱发科 沉积控制器 UCR-5MAG-12ULVAC爱发科 沉积控制器 UCR-5MAG-12特色新的测量方法显著提升了速率稳定性。能力（CI值）测量提升了晶体板检测异常的能力。其出色的薄膜厚度和速率分辨率（0.0018 @5MHz）也非常适合低沉积率控制。它最多可同时控制8个元素。 （…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积控制器 UCR-5MAU-12
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2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积控制器 UCR-4MAG-12
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2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-12NS
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2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-M6
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2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-6U
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-6UULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-6U特色新的测量方法显著提升了速率稳定性。能力（CI值）测量提升了晶体板检测异常的能力。其出色的薄膜厚度和速率分辨率（0.0018 @5MHz）也非常适合低沉积率控制。它最多可同时控制8个元素。 （添加选项…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-4U
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-4UULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-4U特色新的测量方法显著提升了速率稳定性。能力（CI值）测量提升了晶体板检测异常的能力。其出色的薄膜厚度和速率分辨率（0.0018 @5MHz）也非常适合低沉积率控制。它最多可同时控制8个元素。 （添加选项…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-6
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-6ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-6特色新的测量方法显著提升了速率稳定性。能力（CI值）测量提升了晶体板检测异常的能力。其出色的薄膜厚度和速率分辨率（0.0018 @5MHz）也非常适合低沉积率控制。它最多可同时控制8个元素。 （添加选项时…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-4
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-4ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-4特色新的测量方法显著提升了速率稳定性。能力（CI值）测量提升了晶体板检测异常的能力。其出色的薄膜厚度和速率分辨率（0.0018 @5MHz）也非常适合低沉积率控制。它最多可同时控制8个元素。 （添加选项时…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-0
ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-0ULVAC爱发科 沉积控制器 CRTS-0特色新的测量方法显著提升了速率稳定性。能力（CI值）测量提升了晶体板检测异常的能力。其出色的薄膜厚度和速率分辨率（0.0018 @5MHz）也非常适合低沉积率控制。它最多可同时控制8个元素。 （添加选项时…
2026-04-21