ULVAC爱发科 气体监测仪 Qulee RGM2-201F
ULVAC爱发科 气体监测仪 Qulee RGM2-201F
特色
排气系统和控制系统集成且可垂直放置，且全球最小的占地面积使得即使在空间有限的生产线中也能监测反应气体。
维护期间更换耗材套件的速度大幅提升，两个工人完成120分钟的工作，一个人只需10分钟即可完成。
双丝可实现气体分析，无需在第一根耗材断裂时停止生产线。
触摸面板用于实时查看状态。
从启动到测量的操作仅在计算机上完成。
我们独特的带磁石的闭合离子源确保即使在反应性过程中也能实现长期且稳定的测量。
高灵敏度的电离室和低气体解离，使得仅使用法拉第杯即可进行高灵敏度气体分析。
紧凑型流路控制阀，防止热反应导致的分解和吸附。
工艺室到离子源的距离缩短，从而实现快速的分解响应。
预防性维护功能的增强
离子源和次级电子倍增管的预防性维护 分析管可追溯功能的
安装（专利号5016031）标准软件兼容Windows 8/10/11。
用途
CVD、ALD和蚀刻设备
过程中对反应性气体的监测
蚀刻清洗过程的终端监控
残余气体测量
规格
传感器
| 质量数范围（AMU） | 1~200 | |
| 分辨率（M/ΔM） | M/ΔM=1M（10%P.H.） | |
| 探测器 | 法拉第杯（FC） | |
| 灵敏度（A/Pa） ＊1 | 1e-5A/Pa（孔口直连，IE=50uA） N2气体 = 5e-4Pa，Ee50V | |
| 最小检测分压（Pa） ＊1 | e-10Pa（EE50V，IE500uA） | |
| 总压力测量函数 *1 | 是的 | |
| 总压力测量范围 *1 | 1e-3 ~ e-6 Pa | |
| 离子源 | 带磁体的闭合离子源 | |
| 丝材 | 2 IR/Y 2O3（其中一门备用） | |
| 电离电压（EE;电子伏特） | 20~70电子伏特（建议50伏设置用于IE50uA） | |
| 发射电流（IE;uA） | 50uA/500uA（工艺测量建议EE50V和50uA） | |
*1 预备耗材（FIL2）不适用。
差速器排气系统
| 连结法兰 | VCR 1/2英寸Osu螺母等效设备 | |
| 规格压力 | 可选择0.5~30Pa/10~500Pa | |
| 涡轮分子泵 | UTM70B（70升/秒） | |
| 前线泵 | 无 前线进口：KF16 保证运行 前线压力：500Pa或以下 Pirani真空计用于 前线压力验证：SW100-A | |
| 设备压力监测 真空计 | 电容压力计“型号：CCMT” | |
公用事业
| 供电电压 | AC100~120V/6A，AC200~220V/3A | |
| 压缩空气 | 干式N2：0.4MPa | |
其他
| 尺寸 | WDH：502×230×424毫米 | |
| 质量 | 20公斤 | |
| 控制单元 | 触摸面板 | |
| 块式加热器单元 | 110°C±10°C | |
选项
| 分析管 | RGM-AN201F | 用于RGM2-201F |
| 离子源 | RGM-IS01F | 用于RGM2-201F |
| 耗材套装 | RGM-FL01F | 用于RGM2-201F |
| 开口 | RGM-OF030F | 针对RGM2-201F（工作压力范围：0.5~30Pa） |
| 开口 | RGM-OF010F | 针对RGM2-201F（工作压力范围：10~500Pa） |