ULVAC爱发科 真空泵 LS300ULVAC爱发科 真空泵 LS300特色接近大气压的排气速度可达80米3 与传统真空泵相比,泵送时间可缩短约20%。标配专用消音器还消除了干式真空泵特有的噪音问题。 峰值压力下的噪声水平低于61 dB(A),即使在运行中也无需担心。 (*1)C规范标配…
2026-04-17ULVAC爱发科 真空泵 LS120ULVAC爱发科 真空泵 LS120特色接近大气压的排气速度可达80米3 与传统真空泵相比,泵送时间可缩短约20%。标配专用消音器还消除了干式真空泵特有的噪音问题。 峰值压力下的噪声水平低于61 dB(A),即使在运行中也无需担心。 (*1)C规范标配…
2026-04-17ULVAC爱发科 真空泵 MS1200AULVAC爱发科 真空泵 MS1200A特色通过对转子轴和汽缸等主要部件施加特殊表面处理,实现了高耐腐蚀性。ULVAC独特的螺旋式转子轴设计实现了高粉末排放效率。从大气压到达到压力的整个压力范围内,均可实现连续运行。用途用于电子元件和半…
2026-04-17ULVAC爱发科 真空泵 MS600AULVAC爱发科 真空泵 MS600A特色通过对转子轴和汽缸等主要部件施加特殊表面处理,实现了高耐腐蚀性。ULVAC独特的螺旋式转子轴设计实现了高粉末排放效率。从大气压到达到压力的整个压力范围内,均可实现连续运行。用途用于电子元件和半导…
2026-04-17ULVAC爱发科 真空泵 MS120AULVAC爱发科 真空泵 MS120A特色通过对转子轴和汽缸等主要部件施加特殊表面处理,实现了高耐腐蚀性。ULVAC独特的螺旋式转子轴设计实现了高粉末排放效率。从大气压到达到压力的整个压力范围内,均可实现连续运行。用途用于电子元件和半导…
2026-04-17OHKURA大仓 半导体制造设备 DF2600OHKURA大仓 半导体制造设备 DF2600该设备是一种垂直热处理炉(扩散炉)系统,用于半导体制造过程中的热处理。 传统半导体工厂中使用的大容量热处理反应器价格合理,能够根据用户的具体需求灵活响应各单元的特殊规格。特色■性价比…
2026-04-17OHKURA大仓 半导体制造设备 DF1600OHKURA大仓 半导体制造设备 DF1600特色■实现高速温降(FTP兼容)采用垂直电阻加热系统的独特加热器实现高速升温和高温,高速升降处理及正常加工均可由单台机器完成。■我们独特的晶圆传输系统 利用独特的晶圆转移系统,是可靠的驱…
2026-04-17OHKURA大仓 半导体制造设备 DF1000OHKURA大仓 半导体制造设备 DF1000规格晶圆尺寸~φ200毫米~φ150毫米~φ125毫米~φ100毫米炉子尺寸*1宽 2650毫米深 1200毫米高 2580毫米宽2300毫米深850毫米高2395毫米宽2180毫米深850毫米高2395毫米宽 1850毫米深 700毫米高 2150…
2026-04-17OHKURA大仓 控制与通信设备 MT115OHKURA大仓 控制与通信设备 MT115MT108/109/110/111/112/113/114/115 自诊断功能无需在传统现场定期检查,是一种高精度数字计算换能器,可用一台设备测量多个元件。 该系列的八款型号均配备了发电变电站通用的测量元件,根据安装规…
2026-04-17OHKURA大仓 控制与通信设备 MT114OHKURA大仓 控制与通信设备 MT114MT108/109/110/111/112/113/114/115 自诊断功能无需在传统现场定期检查,是一种高精度数字计算换能器,可用一台设备测量多个元件。 该系列的八款型号均配备了发电变电站通用的测量元件,根据安装规…
2026-04-17