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2026-04-21EBARA荏原 真空泵 EMT397MEBARA荏原 真空泵 EMT397M产品介绍F-REX型号是一种安装在洁净室的CMP设备,用于化学和机械方式抛光晶圆表面。 它具有市场验证的高可靠性和优异的工艺性能,并可根据所需规格配置多种灵活设备配置。 它采用双模块化系统,工艺腔室之间无相…
2026-04-21EBARA荏原 真空泵 EV-PA500EBARA荏原 真空泵 EV-PA500产品介绍F-REX型号是一种安装在洁净室的CMP设备,用于化学和机械方式抛光晶圆表面。 它具有市场验证的高可靠性和优异的工艺性能,并可根据所需规格配置多种灵活设备配置。 它采用双模块化系统,工艺腔室之间无…
2026-04-21EBARA荏原 真空泵 EV-PA250EBARA荏原 真空泵 EV-PA250产品介绍F-REX型号是一种安装在洁净室的CMP设备,用于化学和机械方式抛光晶圆表面。 它具有市场验证的高可靠性和优异的工艺性能,并可根据所需规格配置多种灵活设备配置。 它采用双模块化系统,工艺腔室之间…
2026-04-21EBARA荏原 真空泵 EV-A10EBARA荏原 真空泵 EV-A10产品介绍F-REX型号是一种安装在洁净室的CMP设备,用于化学和机械方式抛光晶圆表面。 它具有市场验证的高可靠性和优异的工艺性能,并可根据所需规格配置多种灵活设备配置。 它采用双模块化系统,工艺腔室之间无相…
2026-04-21EBARA荏原 真空泵 EV-SA50EBARA荏原 真空泵 EV-SA50产品介绍F-REX型号是一种安装在洁净室的CMP设备,用于化学和机械方式抛光晶圆表面。 它具有市场验证的高可靠性和优异的工艺性能,并可根据所需规格配置多种灵活设备配置。 它采用双模块化系统,工艺腔室之间无…
2026-04-21EBARA荏原 真空泵 EV-SA30EBARA荏原 真空泵 EV-SA30产品介绍F-REX型号是一种安装在洁净室的CMP设备,用于化学和机械方式抛光晶圆表面。 它具有市场验证的高可靠性和优异的工艺性能,并可根据所需规格配置多种灵活设备配置。 它采用双模块化系统,工艺腔室之间…
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