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ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C22211
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C22211ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C22211规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C12211
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C12211ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C12211规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C31111
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C31111ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C31111规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C21111
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C21111ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C21111规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C11111
ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C11111ULVAC爱发科 沉积设备 PSE-15C11111规格电压交流100V单相0.8kVA（50/60Hz）允许电压波动范围=10%负载电流最大80A控制信号外部自动控制输入 DC-0~10V/0~100% 设置接收阻抗 1MΩ电力控制系统晶闸管交流相位控制系统（输出稳定精度：…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 RFS-201
ULVAC爱发科 沉积设备 RFS-201ULVAC爱发科 沉积设备 RFS-201特色它是一种用于绝缘体、金属和半导体材料的溅射器件。我们主泵使用涡轮分子泵。三根阴极2英寸，可实现多层沉积，最多可达3层。磁控管溅射可提供30 nm/min（SiO2）的溅射速率。它配备了基底加热机制（35…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151SRF
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151SRFULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151SRF特色它是一种用于绝缘体、金属和半导体材料的溅射器件。我们主泵使用涡轮分子泵。三根阴极2英寸，可实现多层沉积，最多可达3层。磁控管溅射可提供30 nm/min（SiO2）的溅射速率。它配备了基底加热机…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151M
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151MULVAC爱发科 沉积设备 VTR-151M特色它是一种用于绝缘体、金属和半导体材料的溅射器件。我们主泵使用涡轮分子泵。三根阴极2英寸，可实现多层沉积，最多可达3层。磁控管溅射可提供30 nm/min（SiO2）的溅射速率。它配备了基底加热机制（…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-060ERH
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-060ERHULVAC爱发科 沉积设备 VTR-060ERH规格模型VTR-060M/ERH真空性能达到压力10-4立架（真空层无负荷清洗时）1.510-3PA（可选规范）排气时间4.010-3Pa/20分钟（清洁真空室时不负荷）真空罐真空罐圆柱形玻璃腔体（Φ236mmH250mm）底板7个…
2026-04-21 -
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-060M
ULVAC爱发科 沉积设备 VTR-060MULVAC爱发科 沉积设备 VTR-060M规格模型VTR-060M/ERH真空性能达到压力10-4立架（真空层无负荷清洗时）1.510-3PA（可选规范）排气时间4.010-3Pa/20分钟（清洁真空室时不负荷）真空罐真空罐圆柱形玻璃腔体（Φ236mmH250mm）底板7个端口…
2026-04-21